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產品簡介
CVD管式爐采用雙層殼體結構,智能化程序控溫系統，可控硅控制，控溫精度高；內置兩個溫區，可以營造不同的溫度梯度。雙層爐殼間配有風冷系統，有效降低爐殼表面溫度；結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛。
詳細介紹
CVD管式爐由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。其原理在于在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子，這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。CVD管式爐用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
CVD管式爐主要功能和特點：
1、CVD管式爐內置兩個溫區，可以營造300℃內不同的溫度梯度；
2、雙溫區控制系統采用PID方式控制，控溫儀表中可以設置30段升降溫程序，每個溫區可以單獨控溫；
3、采用KF快速法蘭密封，只需要一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人為操作導致漏氣的可能；減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能；
4、CVD管式爐爐蓋可打開，可以實時觀察燒結的物料狀況，并能迅速降溫，滿足材料驟冷驟熱的實驗需要；
5、CVD管式爐爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，耐用，拉伸強度高，無雜球，純度高，節能效果明顯優于國內纖維材料；
6、加熱元件采用內嵌式高電阻優質合金絲0Cr27Al7Mo2，經久耐用，zui高溫度可達1200℃。
7、預留了真空、氣路快速接口，可配合我司真空系統、混氣系統使用；
8、CVD管式爐預留了485轉換接口，可通過我司軟件，與計算機互聯，可實現單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能；可安裝無紙記錄裝置，實現數據的存儲、輸出。
9、CVD管式爐上蓋開啟自動斷電，超溫報警并斷電，漏電保護，操作安全可靠。
