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產品簡介
詳細介紹
晶圓熱電偶溫度傳感器 TC Wafer熱電偶廠家
引言
TC為熱電偶的簡稱， TC WAFER則是直接鑲嵌于晶圓表面的溫度傳感器，可以實現晶圓表面溫度的實時測量。借助于放置在晶圓表面特定位置之溫度傳感器，可獲得這些特定位置的真實溫度測量值以及整天晶圓溫度分布；同時，也可利用此傳感器來持續監控在熱處理工程中晶圓暫態溫度變化，例如：升溫，降溫過程及延遲周期等！（溫度的均勻與否，良率）
產品特點
半導體制造廠 Fab，PVD/CVD 部門、RTP 部門等使用。
傳感器可以定制。
高精度多通道數據采集儀。
優異的軟件功能，方便數據統計、趨勢繪圖和數據導出。
產品優勢
高精度：由于其直接嵌入在晶圓表面，可以實現對晶圓溫度的實時、精確監測。
可靠性：傳感器材料穩定，適應長期運行，不易受到外界干擾。
高靈敏度：微小的溫度變化也能被傳感器準確地捕捉，確保制程的穩定性。
即時性：傳感器的實時性能使得生產線上的溫度調整能夠迅速響應，減少生產過程中的溫度波動。
Wafer-TC晶圓熱電偶溫度傳感器在半導體制造過程中具有廣泛應用
晶圓熱處理：在晶圓加工過程中，需要對晶圓進行精確的溫度控制，以確保所需的材料性能和結構。
晶圓降溫：晶圓從高溫狀態降溫時，需要監測溫度變化，以避免溫度梯度引起的應力和熱應力。
薄膜沉積：在薄膜沉積過程中，溫度的精確控制可以影響薄膜的厚度、均勻性和質量。
等離子體刻蝕：溫度變化可能會影響刻蝕速率和表面質量，因此需要實時監測和控制溫度。
結論
隨著半導體技術的不斷進步，對于溫度控制的需求也在不斷增加。晶圓熱電偶溫度傳感器作為一種高精度、可靠性強的溫度監測工具，在半導體制造過程中發揮著重要作用。通過實時監測和控制晶圓溫度，可以提高產品質量、穩定制程，并推動半導體行業的持續發展。
晶圓熱電偶溫度傳感器 TC Wafer熱電偶廠家