目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ254-II-DCDC-SS桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
| 樣品臺尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶，可調(diào)角度 |
| 靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | 濺射功率 | 濺射功率 |
磁控濺射鍍膜儀是一種的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。
磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品特點：
? 高效鍍膜：采用磁控濺射技術(shù)，沉積速率高，薄膜均勻性好。
? 多功能應(yīng)用：支持多種靶材和基材，適用于不同材料的薄膜沉積。
? 智能控制：配備的控制系統(tǒng)，實現(xiàn)精準(zhǔn)的工藝參數(shù)控制。
? 模塊化設(shè)計：方便維護和升級，可根據(jù)需求定制各種功能模塊。
? 環(huán)境友好：低能耗設(shè)計，減少對環(huán)境的影響。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
| 參數(shù)名稱 | 參數(shù)說明 | |
| 產(chǎn)品名稱 | 桌面型前開門雙靶磁控濺射鍍膜儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | CY-MSZ254-II-DCDC-SS | |
| 真空腔 | 腔體材質(zhì) | 304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理 |
| 取放模式 | 前開門方式取放樣品和靶材 | |
| 觀察窗 | 直徑100mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染 | |
| 樣品臺 | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型（0-30RPM）可選 | |
| 加熱溫度 | RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可選 | |
| 磁控靶 | 靶槍類型 | 普通永磁靶，可調(diào)角度 |
| 靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | |
| 濺射功率 | 300W | |
| 濺射方式 | 直流濺射 | |
| 工作真空 | 0.3-3Pa | |
| 電源 | 直流電源 300W *2 | |
| 濺射氣體 | 高純氬氣，純度99.99% | |
| 真空測量 | 復(fù)合真空計，電阻規(guī)+電離規(guī)，測量范圍：105-10-5Pa | |
| 真空獲取 | 前級泵 | 抽速 1.1L/S |
| 分子泵 | 抽速 600L/S | |
| 膜厚測量 | 通常配CYKY膜厚測量儀 | |
| 也可選配進口品牌，價格額外計算 | ||
| 外形尺寸 | 550mm*350mm*450mm | |
| 包裝尺寸 | 770×720*730mm | |
| 包裝重量 | 110 KG | |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
1
化工儀器網(wǎng)