詳情介紹：

本產品為桌面型石英腔體小型蒸發鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍。真空腔體采用高純石英制作，具有便于觀察鍍膜過程，易于清洗的優點；配合分子泵組可達到5x10-4Pa極限真空，能夠有效保證蒸鍍薄膜的純凈度和結合力。

在電子領域，桌面型石英腔體蒸發鍍膜儀可用于制備各種電子元件和組件的薄膜。例如，可用于制造集成電路中的金屬化層、電容器中的電極、電阻器中的薄膜電阻等。這些薄膜具有高精度、高均勻性和良好的電性能，對于提高電子元件的性能和穩定性具有重要作用。

在光學領域，該設備可用于制備光學薄膜。光學薄膜在光學儀器、光學通信、光學存儲等領域具有廣泛應用。通過蒸發鍍膜技術，可以制備出具有高透過率、高反射率或特定光學性質的薄膜，如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜能夠改善光學系統的性能，提高光學器件的效率和精度。

技術參數：