簡單介紹：

立式三溫區管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理

詳情介紹：

該款管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，采用高純氧化鋁多晶纖維制作爐膛，加熱元件為硅碳棒，可延長爐體使用壽命。整機結構合理，操作簡單易學，是在多重氣氛或真空狀態下對金屬，非金屬及其化合物進行燒結、熔化、分析的理想產品。

應用領域：立式三溫區管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理。對于陶瓷材料，如氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷等，能夠提供精準的溫度控制。在燒結過程中，不同溫區可以設置不同的溫度梯度，使陶瓷坯體在受熱過程中逐步致密化。例如，在最外層溫區可以設置稍低的預熱溫度，中間溫區為主要的燒結溫度區間，內部溫區設置為冷卻或保持一定的溫度，這樣可以減少熱應力，防止陶瓷材料在燒結過程中出現開裂等缺陷。

在一些半導體材料（如硅、鍺等）的晶體生長過程中，可以提供溫度梯度，用于控制材料的熔化、結晶和生長方向。不同溫區可以模擬不同的熱環境，使得晶體在生長過程中能夠按照預定的方向和速率生長，有利于提高晶體的質量和性能，例如減少晶體中的缺陷和雜質。

對于已經制備好的半導體器件，需要進行熱處理來改善其電學性能?？梢酝ㄟ^設置不同的溫區，對器件進行退火、擴散等熱處理工藝。例如，在半導體器件的退火過程中，利用不同溫區控制溫度和氣氛，消除器件中的晶格缺陷，激活摻雜原子，提高器件的性能和可靠性。

主要技術參數：