本產品為專為高真空設計的小型高真空熱蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經過除氣處理，配合分子泵組可達到5x10^-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用上掀蓋開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染。。  

高真空熱蒸發鍍膜儀用途：  

本儀器適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜。  

高真空熱蒸發鍍膜儀技術參數：  

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