等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-1Pa的真空度，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小，節省空間，能夠置于試驗臺上使用，一機多用，性價比突出，非常適合各大高校及研究機構選用。

小型二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等。

小型二合一鍍膜儀技術參數：

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