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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>電子束,激光鍍膜儀>> CY-EVP500-EB電子束蒸發鍍膜

電子束蒸發鍍膜

  • 電子束蒸發鍍膜
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參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 CYKY
  • 型號 CY-EVP500-EB
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2025-07-31 14:49:39瀏覽次數:36評價

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該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

設備技術參數

使用條件

環境溫度5℃~40℃   電源:三相380 V,功率:≤20 KW,水壓:≤2.5bar

真空室尺寸

蒸發室尺寸φ500×H500(㎜)

電子槍

新型電子槍1套,6穴坩堝

樣品轉盤

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500℃

系統真空度

極限真空

經12~24小時烘烤,連續抽氣≤5x10-5Pa

抽氣速率

從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

系統漏率

整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統

FB1200分子泵+機械泵(TRP-36)系統,并設置旁路抽氣

鍍膜監測

采用SQM160膜厚儀進行監測

鍍膜厚度

鍍膜厚度的不均勻度≤6%

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