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DMD無掩膜光刻機
DMD式無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數字掩膜,可在抗蝕劑內曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數據，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現了穩定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm´0.6mm，曝光時間僅需1s。結合電動移動平臺，可實現曝光拼接，分辨率可達到3mm。可通過公司編寫的軟件完成詳細設定，使操作簡潔方便。
DMD無掩膜光刻機
與傳統的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數字掩膜光刻技術，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數據，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源，相對于其它的光源，擁有更高的穩定性和更長的壽命，降低價格的同時實現了穩定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm´0.6mm，結合電動平移臺可實現曝光拼接，可達到更大的曝光面積。可通過公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設定，操作簡潔方便。
設備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。
① AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源，實現了穩定的曝光，并且擁有更高的穩定性和更長的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm，光刻分辨率達到5mm，并在10s 內完成曝光。
②
②AU-PALET_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源，采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內完成曝光。
u 主要特點
u 主要應用
磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成
傳感器，半導體器件的制作
MEMS器件的試制、
光電子，LED的試制
微流體器件的試制
掩膜版制作
細胞分離通道等的制作
光波導路的制作
u 主要參數
型號 參數 | AU-PALET | AU-PALET_new |
光源 | 375nm LED | 365nm LED |
光刻分辨率（使用10倍物鏡） | 5 mm | 3 mm |
曝光面積（使用10倍物鏡） | 1mm´0.6mm | 1mm´0.6mm |
平臺 | 手動XYZq平臺 | 手動XYZq平臺 |
構成 | 裝置本身，電腦， 軟件 | 裝置本身，電腦， 軟件 |
外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
選項 | 2x鏡頭，電動平臺等 | 2x鏡頭，電動平臺等 |
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