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使用Agilent ICP-MS/MS測定高純度過氧化氫中的超痕量元素
閱讀：384 發(fā)布時間：2019-10-17| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 383.5KB |
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過氧化氫 (H2O2) 是半導(dǎo)體設(shè)備制造過程中采用的重要的制程化學(xué)品之 一。H2O2 作為強氧化劑，可用于清洗硅片、去除光刻膠，并在印刷電路板 上蝕刻金屬銅。當(dāng)化學(xué)品與硅片直接接觸時，必須盡可能地將痕量金屬污 染控制在低濃度，以保持器件的性能和產(chǎn)量。
半導(dǎo)體設(shè)備與材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會 (SEMI) 發(fā)布了有關(guān)半導(dǎo)體制程化學(xué)品（包 括 H2O2）性能指標(biāo)的標(biāo)準(zhǔn) (SEMI C30-1110 – Specifications for Hydrogen Peroxide)。SEMI 5 級為高的純度級別，絕大多數(shù)雜質(zhì)元素的含量不超過 10 ppt。半導(dǎo)體行業(yè)用于監(jiān)測痕量元素污染物的標(biāo)準(zhǔn)方法是四極桿 ICP-MS (ICP-QMS)，但對于更小的器件架構(gòu)和更高的器件性能的追求致使需要監(jiān) 測大量更低濃度的污染物元素。因此，當(dāng)前行業(yè)要求分析方法能夠在 ppt 或亞 ppt 級別的背景等效濃度 (BEC) 下分析各種痕量元素。
SEMI 標(biāo)準(zhǔn) C30-1110 包括高純 H2O2 中允許的硫酸鹽和 磷酸鹽大濃度的性能指標(biāo)，其限值為 30 ppb。該限值 相當(dāng)于元素濃度為 10 ppb 的硫和磷，當(dāng)前這兩種污染 物無法通過 ICP-QMS 進(jìn)行測量。而近期發(fā)展起來的串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 能夠獲得更低的硫、磷 檢測限，使其可以監(jiān)測所有的 SEMI 元素。