OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價(jià)：面議
OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐專(zhuān)門(mén)針對(duì)于用PVD或CSS法來(lái)制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD，爐管內(nèi)載樣盤(pán)可放置3“ 的圓形...
鈣鈦礦鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧...
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐 參考價(jià)：面議
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)針對(duì)于熱蒸發(fā)或CSS（Close Space...
GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀，內(nèi)部設(shè)有4個(gè)蒸發(fā)坩堝，且每個(gè)蒸發(fā)坩堝都帶有擋板，多可放置4種不同的蒸發(fā)物料，可...
雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，...
等離子三靶濺射儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的最-簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三...
磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的最-簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非...
1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化...
2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...
小型三靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片最大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類(lèi)型的靶材...
小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型臺(tái)式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設(shè)定程序，精確控制溫度200ºC~1500ºC（或...
狹縫擠出式涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-SD400狹縫擠出式涂布機(jī)是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過(guò)配置slot die狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量...
平板涂覆機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-DCP-S650平板涂覆機(jī)是一款狹縫擠出式流延平板涂覆設(shè)備，可應(yīng)用于對(duì)各種片狀基材進(jìn)行表面涂布工藝。該設(shè)備本著方便研究者使用，同時(shí)滿(mǎn)足涂布精度和一致性無(wú)...
800mm流延涂覆機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-IV800mm流延涂覆機(jī)是一款800mm長(zhǎng)的流延式涂覆機(jī)，含真空吸盤(pán)和無(wú)油真空泵，配合微米級(jí)可調(diào)式刮刀可制作長(zhǎng)的厚膜。具有*的自動(dòng)推進(jìn)裝置，可以...
600mm涂覆機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-II-VC是一款通過(guò)CE認(rèn)證的自動(dòng)涂覆機(jī)，用千分尺調(diào)節(jié)以達(dá)到所要涂覆的薄膜厚度。儀器采用真空吸附來(lái)固定襯底，使得涂敷過(guò)程中襯底不會(huì)起褶皺，從而使...
PCE-22 紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-22 紫外臭氧清洗機(jī)是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機(jī)，其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠，...
PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等...
PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚...
PCE-6V 小型等離子清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染...
PDC-36G 等離子清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級(jí)有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在...
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)...
PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī)是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率...
GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒(méi)有真空條件下，...
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動(dòng)控制的樣品臺(tái)，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理，保證處理樣...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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