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產品簡介
薄膜納米厚度測量儀自動化薄膜厚度分布圖案系統依靠F54良好的光譜測量系統，可以很簡單快速地獲得大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺，可以非常快速的定位所需測試的點并測試厚度，測試非常快速，大約每秒能測試兩點。系統中預設了許多極坐標形、方形和線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。只需掌握基本電腦技術便可在幾分鐘內建立自己需要的圖形模式。可測樣品膜層基本上所有光滑的
詳細介紹
薄膜納米厚度測量儀
自動化薄膜厚度分布圖案系統
依靠F54良好的光譜測量系統，可以很簡單快速地獲得大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺，可以非常快速的定位所需測試的點并測試厚度，測試非常快速，大約每秒能測試兩點。系統中預設了許多極坐標形、方形和線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。只需掌握基本電腦技術便可在幾分鐘內建立自己需要的圖形模式。
可測樣品膜層
基本上所有光滑的。非金屬的薄膜都可以測量。可測樣品包括：
氧化硅 | 氮化硅 | 類金剛石DLC |
光刻膠 | 聚合物 | 聚亞酰胺 |
多晶硅 | 非晶硅 | 硅 |
薄膜納米厚度測量儀
相關應用
半導體制造
• 光刻膠• 氧化物/氮化物/SOI• 晶圓研磨減薄/封裝
液晶顯示器
• 盒厚• 聚酰亞胺• ITO
光學鍍膜
• 硬涂層• 抗反射涂層• 濾光片
微電子
• 光刻膠• 硅膜• 氧化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
