ACE600-Leica徠卡高真空鍍膜儀

Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉積系統，設計來根據您的FE-SEM和TEM應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。

這種高真空鍍膜機可以通過以下方法進行配置:濺射、碳絲蒸發、碳棒蒸發、電子束蒸發和輝光放電。

適用于Leica EM ACE600高真空鍍膜機的Leica EM VCT真空冷凍傳輸系統，是無污染的低溫掃描電鏡樣本制備的理想解決方案。

外觀設計：創新設計，美觀精致

超高真空：極限真空度2×10-6mbr

樣品尺寸：超大樣品倉，均勻噴鍍

雙靶材設計：斜坡屋頂式雙靶材設計，無需破真空及可實現兩種材質的交替噴鍍。

ACE600-Leica徠卡高真空鍍膜儀 怎么讓鍍膜顆粒度變小？

真空度：預抽真空度越高，覆膜顆粒度越小
靶材：熔點溫度越高，顆粒度越小
鍍膜方式：電子束蒸發鍍膜優于磁控濺射鍍膜
……

拆卸簡單，易清洗

可任選離子濺射模式，碳絲蒸發鍍碳模式，碳棒（熱阻）蒸發模式，電子束蒸發模式，雙濺射模式，濺射-碳絲模式，濺射-碳棒模式，濺射-電子束模式，雙電子束模式。內置石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。