OMNI SONIC RUPTOR 400超聲均質機
Sonic Ruptor 400是一個完整的超聲處理系統(tǒng)，可提供精密的工程設計和一套完整的附件，以適應各種應用。 超聲儀系統(tǒng)具有強大的400瓦電源，能夠減小大1 L的顆粒尺寸。SonicRuptor 400能夠實現(xiàn)0-100％的全幅控制，并與1/8“至1"的超聲儀喇叭兼容 。

OMNI SONIC RUPTOR 400超聲均質機

Sonic Ruptor 400

超聲波均質機
Sonic Ruptor 400是一個完整的超聲處理系統(tǒng)，可提供精密的工程設計和一套完整的附件，以適應各種應用。超聲儀系統(tǒng)具有強大的400瓦電源，能夠減小大1 L的顆粒尺寸。SonicRuptor 400能夠實現(xiàn)0-100％的全幅控制，并與1/8“至1”的超聲儀喇叭兼容。 。
超聲處理系統(tǒng)用于包括納米粒子分散，產生乳劑，細胞分裂和均質化在內的廣泛應用。 Sonic Ruptor 400能夠產生低至1/100微米的乳劑。
高功率，具有自動調諧功能和廣泛的配件
可變功率至400瓦
處理250 µl至1 L
自動調校，方便更換探針
脈沖模式電源可在限制溫度升高的同時處理樣品
集成計時器和可調電源
各種附件，包括消音室和連續(xù)流室
注意：加工技巧，支架組件和配件單獨出售。

訂購信息：裝置包括400瓦控制裝置，傳感器，工具包和說明手冊。