蔡司場發射掃描電鏡【品牌故事】
      世界可見光及電子光學的企業——德國蔡司公司始創于1846年。其 電子光學前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和Zeiss。積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，電子光學成像技術在世界上創造了數個里程碑：

    -與AEG公司合作實現了透射電子顯微鏡的商業化（1949）
    -陸續推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM（1956）
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡，用戶利用
    -該種新產品能夠得到高分辨率元素分布圖片（1984）
    -配用靜電電磁物鏡（Gemini技術）的場發射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場（1993）
    -推出具有Koehler照明的200KV場發射透射電鏡（2003）
    -推出具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡（2003）

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設計，融合歐洲至上的制造工藝， 造就了該品牌在光電子領域的地位。自成立至今，一直延續不 斷創新的傳統，公司擁有廣泛的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的 分析技術的加入，可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產品的高性能、 高質量、高可靠性和穩定性已得到世界范圍內廣大用戶的信賴與認可。

      作為一家電子光學產品提供商，我們將為您提供完善的納米技術解決方案，并且以專業化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業還是科研機構，卡爾 蔡司在高質量電子光學系統方面優良的傳統都會為您的業績做出積極的貢獻。

蔡司場發射掃描電鏡【核心技術】
        蔡司公司推出的Sigma 500場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，分辨率超過0.8nm，為您提供分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。

【技術參數】

分辨率：0.8nm@30kV STEM 

                 0.8nm @15 kV   

                 1.4 nm @1kV

放大倍數：10-1,000,000×

加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現）

探針電流： 3pA～20nA（100nA選配）  穩定性優于 0.2%/h

低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）

樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）

樣品臺：5軸優中心全自動
               
                 X＝130mm
                 Y＝130mm
                 Z＝50mm
                 T＝-4°－70°
                 R＝360°

系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

存儲分辨率：32k x 24k pixels

【產品應用】   
        掃描電鏡廣泛用于材料科學（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害（火災、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。