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微光刻處理技術(shù)引入3D打印
在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域，光刻系統(tǒng)的分辨率比目前3D打印系統(tǒng)的分辨率至少高三～四個(gè)量級(jí)。如何將光刻技術(shù)的高分辨率特點(diǎn)應(yīng)用于3D打印，在提高精度的同時(shí)支持微結(jié)構(gòu)的大面積打印？如何降低對(duì)材料特性依賴，提升3D打印保真度和可靠性，適應(yīng)多材料使用，這就是該項(xiàng)目創(chuàng)新的重要意義。將微光刻技術(shù)、精密涂層工藝和大數(shù)據(jù)處理技術(shù)引入3D打印，實(shí)現(xiàn)了微納3D打印的三大創(chuàng)新。
首先，提出了柔性薄膜送膠與涂層工藝相結(jié)合，常規(guī)膠層厚度1微米-10微米，理論上，膠厚可控制到亞微米。薄膜送膠的特點(diǎn)是每層打印的圖形獨(dú)立曝光，層與層間的曝光互不影響，根本上消除了傳統(tǒng)光固化3D打印累積曝光對(duì)結(jié)構(gòu)展寬的影響，實(shí)現(xiàn)了高深寬比、密集微結(jié)構(gòu)的高保真3D打印。
第二，提出了將縮微投影光學(xué)系統(tǒng)、大數(shù)據(jù)設(shè)計(jì)處理與3D分層曝光技術(shù)相結(jié)合，常規(guī)圖形分辨率0.5微米-2微米，理論上，可做達(dá)0.2微米。采用空間光調(diào)制、大數(shù)據(jù)壓縮與掃描拼接曝光技術(shù)，攻克了高分辨率圖形大面積打印的難題，從而，實(shí)現(xiàn)了3D打印的高精度與大面積的協(xié)同。
第三，提出了多噴頭供膠模式，控制打印涂層厚度及組合，在逐層打印時(shí)，提供不同特性、不同成分的打印材料，降低了對(duì)材料特性的依賴，實(shí)現(xiàn)多全新功能材料3D打印，材料消耗和價(jià)格大幅下降。
德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。
德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。