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| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,電子/電池 |
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| 組件類別 | 光學元件 |
產品簡介
詳細介紹
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。
刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次
刻劃后讓鉆石刀頭按精確路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精確控制。
紅外波段特征：
光柵基片材料: 浮法玻璃 | 表面光潔度：60/40 |
尺寸公差：± 0.5 mm | 厚度公差：± 0.5 mm |
效率：60%~ 80% @閃耀波長 | 有效孔徑：90% |
損傷閾值：350mJ/cm2 @200ns脈沖激光40W/cm2 (CW)連續激光 | |