| 產地類別 |
國產 |
價格區間 |
5萬-10萬 |
| 應用領域 |
化工,生物產業,能源,電氣,綜合 |
真空鍍膜設備通常由多個關鍵部分組成，每個部分都有其特定的功能，協同工作以實現高效、均勻的薄膜沉積。
真空鍍膜設備通常由多個關鍵部分組成，每個部分都有其特定的功能，協同工作以實現高效、均勻的薄膜沉積。以下是主要組成部分及其功能介紹：
主要組成部分
真空腔體：
功能：提供一個低壓或高真空環境，防止鍍膜材料在蒸發或濺射過程中與空氣中的雜質反應，保證薄膜的純度和質量。
結構：通常由高強度、不銹鋼或鋁制成，內部設計考慮了氣流分布和基材放置的便捷性。
真空泵系統：
功能：用于將真空腔體內的氣體抽出，以達到所需的真空度。
類型：包括機械泵(如旋片泵)、渦輪分子泵、擴散泵和離子泵等。
蒸發源或濺射源：
功能：加熱并蒸發鍍膜材料，使其在真空中形成蒸氣或等離子體。
類型：包括電阻加熱源、電子束蒸發源、磁控濺射源和激光蒸發源等。
基材支架和旋轉機構：
功能：固定基材，并通過旋轉或擺動確保鍍膜材料均勻地沉積在基材表面。
結構：通常包括可調節的夾具和旋轉/擺動裝置，以適應不同形狀和尺寸的基材。
電源和控制系統：
功能：為蒸發源、濺射源和其他設備提供電力，并控制整個鍍膜過程的參數，如溫度、真空度和時間。
組件：包括電源供應器、控制面板、計算機控制系統和監測傳感器等。
氣體供應系統(對于濺射鍍膜設備)：
功能：供應惰性氣體(如氬氣)或反應氣體(如氧氣、氮氣)，以維持等離子體或參與化學反應生成特定薄膜。
組件：包括氣瓶、流量控制器和氣體輸送管道等。
冷卻系統：
功能：冷卻蒸發源、濺射源和真空腔體，防止過熱。
類型：包括水冷系統和風冷系統等。
監測和檢測系統：
功能：實時監測鍍膜過程中的關鍵參數，如薄膜厚度、沉積速率、真空度和溫度，確保鍍膜質量。
類型：包括石英晶體微天平、光學厚度監測儀和殘余氣體分析儀等。
防護裝置：
功能：確保操作人員和設備的安全，防止因高溫、高電壓或真空環境引起的危險。
組件：包括防護罩、急停按鈕和安全聯鎖裝置等。
綜上所述
真空鍍膜設備通過這些組成部分的協同工作，實現了高質量薄膜的沉積過程。這些設備在光學、電子、裝飾和功能性薄膜的制備中起到了至關重要的作用。
化工儀器網