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離子濺射儀的離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速...

小型真空等離子清洗機是一種高新技術，可以達到傳統清洗劑無法達到的效果，如對材料表面進行清洗、活化、改性、刻蝕等，提高親水性附著力。等離子體是一種物質形式，也稱為...

電鏡制樣玻璃制刀機采用平衡斷裂法，確保制造出優秀的刀片；取出抽屜采用雙導軌結構，更方便、穩定、耐用；玻璃刀滾輪可自動鎖定、復位，有效降低操作失誤率；玻璃刀壓力可...

桌面層壓機是針對包裝熱封強度檢測而研究生產的儀器，熱封儀主要應用于制作塑料薄膜基材、軟包裝復合膜、涂布紙及其它熱封復合膜。主要有熱封溫度、熱封時間、熱封壓力等參...

產品優勢1.全封閉式顯影，避免霧氣擴散到外部，污染環境。2.外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。3.內腔鍍特氟龍，光滑，耐腐蝕，易清洗。4.內置真空過濾器，防止液體吸入真...

電解雙噴儀加液氮制冷方式，控制盒與電解槽分開控制、拋光、破孔自動報警并停機；拋光電壓、電流值液晶數顯，拋光電壓、感光值及流速旋鈕可調；磁力涌流式噴射拋光，進口 ...

程控勻膠機 是一款高性能精密勻膠機，采用了*進的設計理念，配合精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。可以存貯10組程序，每組程序可達10步。所...

加熱紫外清洗機是一款程控型紫外光清洗機，擁有獨立的控制系統，使用時符合人體工程學。 UC200-SE高溫型紫外臭氧清洗機是市場上使用集成控制系統的桌面型紫外光清...

基本型電解雙噴儀特點：1.加液氮制冷方式，控制盒與電解槽分開控制、拋光、破孔自動報警并停機；2.拋光電壓、電流值液晶數顯，拋光電壓、感光值及流速旋鈕可調；3.磁...

標準型電解雙噴減薄儀特點：控溫電解雙噴儀七寸全彩觸摸屏操作，電解液溫度和電流變化曲線實時顯示采用外置冷卻機進行恒定溫度控制，提高了制樣重復性（TJ100-SE-...

實驗室等離子清洗機是一款專門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設備，利用真空環境產生等離子體去處理樣品的表面，達到常規清洗方法無法達到的效果。

實驗室涂膜機用于制備均一的涂膜，因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器，以選定的速度來回移動。由于試紙平整地被吸附...

伺服勻膠機是一款高性能精密勻膠機，采用了*進的設計理念，配合 精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。可以存貯 100 組程序，每組程序可達 1...

涂膜機用于制備均一的涂膜，因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器，以選定的速度來回移動。由于試紙平整地被吸附在平面...

電鏡制樣超薄切片機新設計，切片運動采用直流無刷電機，提高運動穩定性；人性化設計，配載退刀流程，減少樣品損壞度；數字化操作界面，一鍵回程按鈕，操作便捷；設備適配多...

半導體顯影機是用于制造半導體器件的關鍵設備。它的工作原理是在半導體制造過程中，使用化學顯影液對芯片表面進行處理，將不需要的材料或圖形去除，從而形成所需的電路結構...

全新外觀設計，適配實驗室實驗操作半導體顯影機*進的設計理念，模塊化設計可快速拆卸和替換原有功能模塊，操作便捷支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗等功能模塊個性化定制...

全封閉顯影機主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩定性好，重復性好，對顯影作業有非常理想的效果。設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可...

電鏡制樣玻璃制刀機采用平衡斷裂法，確保制造出優秀的刀片；取出抽屜采用雙導軌結構，更方便、穩定、耐用；玻璃刀滾輪可自動鎖定、復位，有效降低操作失誤率；玻璃刀壓力可...

PF400基本型涂膜機用于制備均一的涂膜，因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器，以選定的速度來回移動。由于試紙平...