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Pluto-30等離子清洗機

產品簡介：

Pluto30是專為研發而設計的全功能等離子體系統，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持多達7個可調節樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統的應用范圍，提供給用戶比的靈活性。

Pluto-30等離子清洗機

產品特點：

利氣體輸送系統，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置

*的射頻系統提供越的工藝重復性和處理效率

全自動處理能力

圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅動流程并提供實時流程信息

臺式設計需要較小的占地面積

技術參數：

應用領域：

實用案例：微型電路板去膠

檢測設備：金相顯微鏡 （放大40倍）  實驗設備：Pluto-30等離子表面處理機

線路板上，有明顯殘膠存在

氧氣，功率200W，殘膠已*清除

典型應用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合

增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應力，改善表面粘結性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫療器械，醫療植入物