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壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測技術介紹

閱讀:1702          發布時間:2022-7-5

壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測技術介紹

一種行業標準、價格低廉、用途廣泛的臺式薄膜厚度測量系統,已安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發到生產現場在線測量的廣泛應用。
F20可以在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信,因
此可以從PLC或上位機控制。

 ScAlN 薄膜厚度檢測特點

 

  • 支持廣泛的薄膜厚度(1 nm 至 250 μm)

  • 支持寬波長范圍(190nm 至 1700nm)

  • 強大的膜厚分析

  • 光學常數分析(折射率/消光系數)

  • 緊湊型外殼

  • 支持在線測量

測厚技術的主要用途

平板 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、
各種光學薄膜等
半導體 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學鍍膜 減反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池 CdTe、CIGS、非晶硅等
  砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等
醫療保健 鈍化、藥物涂層等

相關設備介紹

 

模型 F20-UV F20 F20-近紅外 F20-EXR F20-UVX
測量波長范圍 190 – 1100nm 380 – 1050nm 950 – 1700nm 380 – 1700nm 190 – 1700nm
膜厚測量范圍 1nm – 40μm 15nm – 70μm 100nm – 250μm 15nm – 250μm 1nm – 250μm
準確性* ± 0.2% 薄膜厚度 ± 0.4% 薄膜厚度 ± 0.2% 薄膜厚度
1納米 2納米 3納米 2納米 1納米
測量光斑直徑 支持1.5 毫米或 0.5 毫米最小 0.1 毫米(可選)
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

* 由 Filmometry 提供的在 Si 基板上測量 SiO2 薄膜時的設備主體精度。


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