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Hitachi日立高新場發射掃描電鏡SU9000
日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩定觀察的*半導體器件，高分辨成像所設計。新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
產品簡介
詳細介紹
Hitachi日立高新場發射掃描電鏡SU9000
日立SU9000超高分辨冷場發射掃描電鏡，達到掃描電鏡二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進的真空系統和電子光學系統，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的Flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩定觀察的*半導體器件，高分辨成像所設計。
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
Hitachi日立高新場發射掃描電鏡SU9000
采用全新設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。