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原位薄膜應(yīng)力測試儀的主要特點(diǎn)及測試功能
原位薄膜應(yīng)力測試儀的主要特點(diǎn)：
1、MOS 多光束傳感器技術(shù)。
2、單Port(樣品正上方)和雙Port(對稱窗口)系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
3、適合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系統(tǒng)等各種真空薄膜沉積系統(tǒng)以及熱處理設(shè)備等。
4、薄膜應(yīng)力各向異性測試和分析功能。
5、生長速率和薄膜厚度測量。（選件）
6、光學(xué)常數(shù)n&k 測量。（選件）
7、多基片測量功能。（選件）
8、基片旋轉(zhuǎn)追蹤測量功能。（選件）
9、實(shí)時光學(xué)反饋控制技術(shù)，系統(tǒng)安裝時可設(shè)置多個測試點(diǎn)。
10、專業(yè)設(shè)計(jì)免除了測量丌受真空系統(tǒng)振動影響。
原位薄膜應(yīng)力測試儀的測試功能：
1、實(shí)時原位薄膜應(yīng)力測量。
2、實(shí)時原位薄膜曲率測量。
3、實(shí)時原位應(yīng)力*薄膜厚度曲線測量。
4、實(shí)時原位薄膜生長全過程應(yīng)力監(jiān)控等。
1、MOS 多光束傳感器技術(shù)。
2、單Port(樣品正上方)和雙Port(對稱窗口)系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
3、適合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系統(tǒng)等各種真空薄膜沉積系統(tǒng)以及熱處理設(shè)備等。
4、薄膜應(yīng)力各向異性測試和分析功能。
5、生長速率和薄膜厚度測量。（選件）
6、光學(xué)常數(shù)n&k 測量。（選件）
7、多基片測量功能。（選件）
8、基片旋轉(zhuǎn)追蹤測量功能。（選件）
9、實(shí)時光學(xué)反饋控制技術(shù)，系統(tǒng)安裝時可設(shè)置多個測試點(diǎn)。
10、專業(yè)設(shè)計(jì)免除了測量丌受真空系統(tǒng)振動影響。
原位薄膜應(yīng)力測試儀的測試功能：
1、實(shí)時原位薄膜應(yīng)力測量。
2、實(shí)時原位薄膜曲率測量。
3、實(shí)時原位應(yīng)力*薄膜厚度曲線測量。
4、實(shí)時原位薄膜生長全過程應(yīng)力監(jiān)控等。
