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產品簡介
三目暗場金相顯微鏡WYJ-100BD采用優良的無限遠光學系統與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。
詳細介紹
◆產品概述：
三目暗場金相顯微鏡WYJ-100BD采用優良的無限遠光學系統與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業、硅片制造業、電子信息產業等觀察研究的理想儀器。總放大倍數：50-1000X
◆產品特點：
1、采用了先進的無限遠光路設計，提供了超卓的光學系統。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦，成像清晰。
3、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
4、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
6、具有亮度調節功能，能夠在轉換物鏡情況下自動調節光亮度。
◆典型應用：
1、電子工業制造業對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性。3、分析金屬、礦相內部結構組織。
◆三目暗場金相顯微鏡WYJ-100BD規格參數：
一、顯微鏡參數：
配置 | 技術規格 | 數量 |
目鏡 | 大視野 PLAN 10X (視場數25mm） FN25 | 2 |
平場無限遠消色差明暗場物鏡 | PLAN lnflnity 5X BD NA 0.1, WD 16.6 | 1 |
PLAN lnflnity 10X BD NA 0.25, WD 16.0 | 1 | |
PLAN lnflnity 20X BD NA 0.40, WD 10.5 | 1 | |
PLAN lnflnity 50X BD NA 0.55, WD 5.1 | 1 | |
PLAN lnflnity 100X BD NA 0.8 WD 3.01 | 1 | |
三目鏡筒 | Interpupillary distance 55mm-75mm 0.5x C-mount U-CTR30-2 Trinocular tube, FN26, fixed light pass, Bi/Photo: 50/50 100/0 0/100 | 1 |
調焦機構 | 粗微動同軸調焦，微動格值：1微米，帶鎖緊和限位,大行程30mm，可放置試樣高度40mm | 1 |
顯微鏡鏡體 | 10w 高效率白色LED 色溫溫和 包含轉換器 濾色片 明暗場切換裝置 可調視場光闌 | 1 |
轉換器 | 五孔 轉換器 | 1 |
左右手操作可切換，高低位可調工作臺 | X 行程 77mm Y 行程 55mm | 1 |
聚光鏡 | 阿貝聚光鏡NA0.9 上下可升降 可調孔徑光闌 | 1 |
濾色片 | Blue Green and yellow frosted glass | 3 |
電源 | 100v~240v輸入 100 v to 240 v input AC | 1 |
防塵罩 | Dust cover | 1 |
二、目鏡參數：
型號 | 放大倍率 | 視場直徑(mm) | 外徑(mm) |
WF10X/25 | 10X | φ25 | φ30 |
三、物鏡參數：
放大倍率 | 數值孔徑 | 分辨率 (μm) | 工作距離(mm) | 共軛距離(mm) | 齊焦距離(mm) | 蓋玻片厚度(mm) |
5X | 0.15 | 2.10 | 12.8 | ∞ | 45 | 無 |
10X | 0.25 | 1.10 | 10.7 | ∞ | 45 | 無 |
20X | 0.40 | 0.70 | 8.9 | ∞ | 45 | 無 |
50X | 0.55 | 0.55 | 4.6 | ∞ | 45 | 無 |
100X | 0.80 | 0.42 | 2.15 | ∞ | 45 | 無 |