PS聚苯乙烯纖維復合網格-靜電紡絲

靜電紡絲作為一種簡便高效的生產高分子納米纖維的加工技術，用于制備低模量、高柔順性、高強度的可降解高分子纖維材料是一個重要的科學課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動醫學和生物學的發展與進步。

PS聚苯乙烯纖維復合網格-靜電紡絲

以聚苯乙烯(PS)為對象,使用不同配比的二甲基甲酰胺(DMF)和四氫呋喃(THF)為混合溶劑,采用靜電紡絲技術制備得到微米級PS纖維薄膜.探討了溶劑對靜電紡纖維形態的影響,并對所得纖維薄膜的疏水性和拉伸性能進一步表征分析.結果表明,當DMF與THF的質量比為50:50和25:75時,出現雙股結構纖維;隨著溶劑中THF的逐漸增多,纖維結構變化為珠線-粗糙雙股纖維-光滑雙股纖維-扁平寬纖維;靜電紡絲法可有效地提高薄膜的水接觸角,其角度值比普通成膜法高出40°;粗糙雙股纖維的出現,在不大幅度降低其疏水性的前提下,可大大增強纖維薄膜的拉伸性能.

三維多孔納米PCL纖維膜-載阿霉素

載有布比卡因的PCL納米纖維

PS聚苯乙烯纖維網格圓盤

組織工程3D網格支架-PS聚苯乙烯材質

聚苯乙烯PS-3D網格支架

聚苯乙烯PS-不同纖維直徑網格圓盤支架

PS聚苯乙烯纖維支架-細胞培養用網格

纖維結構PS聚苯乙烯網格圓盤支架

三維多孔納米PLGA纖維膜-載阿霉素

載有布比卡因的PLGA納米纖維

多孔薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：100/200/500）um或1cm

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網格濾片150nm（厚度：600um）（直徑3/8cm）（網格空隙：200um）

PS納米纖維網格濾片300nm（厚度：1000um）（直徑3/8cm）（網格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網格濾片150nm（厚度：1cm）（網格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網格濾片300nm（厚度：1cm）（網格空隙：400um）

PS納米纖維內嵌網格濾片150nm（厚度：600um）（孔數：6/12/24/48/96）（網格空隙：200um）

溫馨提示：以上產品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）