昊然供應聚乳酸PLGA電紡纖維膜-孔徑30um

電紡絲技術是一種基于在幾千至幾萬伏的高壓靜電場中，利用導電流體產生高速噴射的原理來制備納米纖維支架的技術。與傳統方法（如粒子致孔法、相分離法等）制備的多孔支架材料不同，由靜電紡絲技術制備出的纖維支架材料不僅纖維直徑小、比表面積大。

昊然供應聚乳酸PLGA電紡纖維膜-孔徑30um
本發明公開了一種靜電紡PLGA超細纖維膜的生產方法,依次按以下步驟進行:第一步驟是制備紡絲溶液;(1)量取四氫呋喃和N,N二甲基甲酰胺,按體積比列按3:1配制混合溶劑;(2)按重量份,稱取16±0.2份聚乳酸-羥基乙酸共聚物和84±0.2份所述混合溶劑,并混合在一起;(3)在紡絲溶液中放入磁子,使用磁力攪拌器攪至聚乳酸-羥基乙酸共聚物在混合溶劑中*溶解,得紡絲溶液;第二步驟是使用靜電紡絲機對第一步驟制備的紡絲溶液進行靜電紡絲,得PLGA超細纖維膜.本發明能夠制備纖維更加平直,形貌較佳,力學性能較好且纖維較細的PLGA超細纖維膜,纖維吸附性能好,為PLGA纖維的應用提供了更好的材料.

介孔PCL納米纖維膜-孔徑20um

靜電紡絲聚已內酯纖維薄膜-大孔

多孔PCL聚已內酯聚合物納米纖維膜

孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架

多孔PCL納米纖維膜

介孔聚已內酯纖維薄膜

不同取向度纖維狀PCL聚已內酯薄膜

多孔薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：100/200/500）um或1cm

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

運輸說明:

極低溫產品:極低溫產品運輸過程中加裝干冰運輸。

低溫產品:低溫產品運輸過程中加裝冰袋運輸。

常溫產品:常溫產品運輸過程中無需加冰或者特殊包裝。

溫馨提示：以上產品僅用于科研，不能用于人體和其他商業用途.以上產品均可定購 （BYZ 2021.7）