多孔聚乙烯醇PVA納米纖維薄膜-孔徑20um

電紡絲技術(shù)是一種基于在幾千至幾萬伏的高壓靜電場中，利用導(dǎo)電流體產(chǎn)生高速噴射的原理來制備納米纖維支架的技術(shù)。與傳統(tǒng)方法（如粒子致孔法、相分離法等）制備的多孔支架材料不同，由靜電紡絲技術(shù)制備出的纖維支架材料不僅纖維直徑小、比表面積大。

多孔聚乙烯醇PVA納米纖維薄膜-孔徑20um
以PVA為原料,采用無針靜電紡絲方法,考察了PVA、PVA/茚三酮復(fù)合溶液的可紡性

針對軸類受力部件的磨損問題,研究了碳納米聚合物復(fù)合材料的制備,并在分析機(jī)械轉(zhuǎn)軸力學(xué)性能及實際應(yīng)用的基礎(chǔ)上,驗證了碳納米聚合物快速修復(fù)技術(shù)在機(jī)械轉(zhuǎn)軸上的應(yīng)用是可行的。

多孔薄膜PLA納米纖維500nm

多孔薄膜PLA納米纖維200nm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm

多孔薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：100/200/500）um或1cm

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

運輸說明:

極低溫產(chǎn)品:極低溫產(chǎn)品運輸過程中加裝干冰運輸。

低溫產(chǎn)品:低溫產(chǎn)品運輸過程中加裝冰袋運輸。

常溫產(chǎn)品:常溫產(chǎn)品運輸過程中無需加冰或者特殊包裝。

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不能用于人體（BYZ 2021.7）