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產品簡介
VE-2012離子濺射儀（TMP+RP）是繼承了VE- 2030(弊公司制造)的概念的簡易型真空蒸鍍裝置。機箱內集成了TMP,外形小巧。因為是臺式機型，所以不占用安裝場所。將RP置于地板上。通過小型TMP+RP的排氣系統，以低價提供清潔高真空的蒸鍍裝置。無需復雜的排氣操作，只需開關ON/OFF的簡單操作系統。
詳細介紹
VE-2012離子濺射儀（TMP+RP）是繼承了VE- 2030(弊公司制造)的概念的簡易型真空蒸鍍裝置。機箱內集成了TMP,外形小巧。因為是臺式機型，所以不占用安裝場所。將RP置于地板上。通過小型TMP+RP的排氣系統，以低價提供清潔高真空的蒸鍍裝置。無需復雜的排氣操作，只需開關ON/OFF的簡單操作系統。使用鎢籃可以蒸鍍金、鋁、鉻、銀等。
VE-2012離子濺射儀（TMP+RP）使用用自動鉛筆型替換芯作為碳蒸鍍的夾緊蒸鍍槍型。(φ 5mm碳棒不能使用。)購買時，選擇碳燕鍍電極或金屬蒸鍍電極。根據選擇，可以追加購買電極。
