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　　磁控濺射儀種類

　　磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。

　　磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會采用一般的濺射法，其的特點為有著較為簡單的設(shè)備，控制起來不困難，有著較大的鍍膜面積以及有著較強(qiáng)的附著力等。在上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是使高速、低溫、低損傷得以實現(xiàn)。由于高速濺射是在低氣壓下進(jìn)行，必須要使氣體的離化率得到有效地提高。磁控濺射利用將磁場往靶陰極表面引入，通過磁場約束帶電粒子來使得等離子體密度提高進(jìn)而使得濺射率增加。

　　磁控濺射儀換樣品過程:

　　1、shou先將真空顯示打開，對濺射室處于真空狀態(tài)與否進(jìn)行檢查，如果處在真空狀態(tài)，那么shou先要放氣，室內(nèi)的大氣壓平衡外界的大氣壓，將濺射室內(nèi)的照明燈打開，查看機(jī)械手是否在靶檔板下面放著，定位鎖是否已經(jīng)抽出時才可以對升起屏蔽罩與否做決定。

　　2、將步進(jìn)電機(jī)升開關(guān)按動，緩緩升起屏蔽罩，直到適合的為止為止，當(dāng)屏蔽罩升到zui高位置時，步進(jìn)電機(jī)升開關(guān)起到的作用為零。

　　3、在對樣品(靶材)進(jìn)行更換時：將螺絲松動，將靶材用清洗干凈的鑷子小心取出靶材，往干凈的容器內(nèi)放入靶材，使污染得以避免。濺射室使用紗布沾高純酒精清洗干凈。在對靶材進(jìn)行放置時，必須要使靶材接觸靶面。將靶材放于中xin，在轉(zhuǎn)盤上架卡樣品。

　　4、對步進(jìn)電機(jī)降開關(guān)進(jìn)行按動，緩緩下降屏蔽罩，當(dāng)下降到與濺射室相接近時，必須在屏蔽罩壁上貼定位儀，能夠使用左手對步進(jìn)電機(jī)降開關(guān)進(jìn)行按動，右手對屏蔽罩進(jìn)行推動，使其安全下降，值得注意的是千萬不要損壞濺射室上真空圈，如果損壞真空，整個濺射室就不可以抽真空，儀器的工作就不會正常。