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貨物所在地：北京北京市

更新時間：2025-06-18 15:46:09

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GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀采用觸摸控制，外置泵組設計，采用平面磁控濺射靶設計，從而使試樣在熱效應最小的條件下得到有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化研究中。

　　GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀自動化程序控制，一鍵式操作，讓鍍膜更加高效。該設備采用觸摸控制，外置泵組設計，采用平面磁控濺射靶設計，從而使試樣在熱效應最小的條件下得到有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化研究中。

　　一、技術參數

　　1、工作原理：磁控濺射

　　2、輸入電壓：AC220V±10%，50Hz

　　3、最大功率（主機與機械泵）：500W

　　4、工作電壓：DC2400V

　　5、存儲環境：溫度-10~60℃，濕度<80%

　　6、工作環境：溫度 5～40℃，濕度<60%

　　7、真空泵：兩級直聯旋片式真空泵 1L/s

　　8、整機尺寸（長×寬×高）：424×271×255（mm）

　　9、重量（主機）：11 kg

　　10、真空腔：φ128×130mm

　　11、樣品杯：φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

　　12、工作氣體：Air / Ar

　　13、保護功能：過流、真空雙保護

　　14、可選靶材：金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬

　　二、手套箱專用磁控濺射儀(手套箱專用離子濺射儀)主要特點

　　1、可用于純氬、純氮環境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染；

　　2、助力新型電池研究；

　　3、提供全套解決方案及交鑰匙服務。

手套箱專用離子濺射儀

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