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菲希爾XDV X射線測厚儀信息

時間:2024/9/29閱讀:527
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菲希爾X射線測厚儀特點

Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces

先進的多毛細管透鏡,可將X射線聚集到極微小的測量面上

現(xiàn)代化的硅漂移探測器(SDD),確保高的檢測靈敏度

可用于自動化測量的超大可編程樣品平臺

為特殊應(yīng)用而專門設(shè)計的儀器,包括:

XDV-μ LD,擁有較長的測量距離(至少12mm)

XDV-μLEAD FRAME,特別為測量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應(yīng)用而優(yōu)化

XDV-μ wafer,配備全自動晶圓承片臺系統(tǒng)

應(yīng)用:

鍍層厚度測量

測量未布元器件和已布元器件的印制線路板

在納米范圍內(nèi)測量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度

對最DA12英寸直徑的晶圓進行全自動的質(zhì)量監(jiān)控

在納米范圍內(nèi)測量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM)

遵循標(biāo)準 DIN EN ISO 3497 和 ASTM B568


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