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MKS ASTRON2L RPS 半導體遠程等離子源是在半導體產線沉積和蝕刻室清潔工藝中的發揮關鍵作用的子組件，可以消除工藝副產物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命...

MKS 遠程等離子體源 ASTRON hf-s 15L RPS 是沉積和蝕刻室清潔工藝的關鍵子組件，消除了工藝副產物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命，并減少薄膜污...

AE Rapid OE RPS 遠程等離子體源是適用于氧氣類過程的遠程等離子體源，內部采用可拆卸石英內襯，可減少復合效應，延長氧自由基的壽命。

MKS 遠程等離子體源 Paragon F* 8SLM RPS 是用于清潔應用的智能遠程等離子體源，為了清潔CVD和ALD/ALE腔室，Paragon遠程等離子...

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AE XSTREAM 遠程等離子體源 RPS 是采用集成主動匹配網絡用于大流量高壓反應性氣體工藝的全集成等離子體源平臺。

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MKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源是一款能為半導體芯片加工提供所需的高性能和清潔的活性氣體源的集成式遠程等離子體源。