半導體用工業冷水機chiller對半導體設備使用的循環液的溫度、流量和壓力進行準確控制，以實現半導體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關鍵設備，溫控精度和溫控范圍要求高，應用在刻蝕、薄膜沉積、涂膠顯影、離子注入、CMP等設備。
半導體制造工藝主要分為兩大類：前道工藝（晶圓制造）和后道工藝（封裝與測試）。前道工藝涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等環節，對應的核心設備包括硅片加工設備、光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備、量測設備等。后道工藝涉及封裝設備和測試設備。冠亞恒溫半導體溫用工業冷水機chiller半導體制造工藝過程中的高精度溫度控制，擁有超過14年的溫度控制經驗和與各行業配套的經驗，冠亞恒溫為客戶提供標準化和定制化的溫度控制產品，結合專業技術知識，確保滿足半導體工藝中的苛刻溫度要求。
作為半導體溫控設備供應商，冠亞恒溫擁有多年的溫度控制經驗以及設備機臺配套經驗，掌握了制冷加熱動態控制技術以及準確控溫技術等半導體溫控設備核心技術，具備單通道、多通道半導體溫控設備批量生產能力；可實現從晶圓制造、涂膠顯影、刻蝕、清洗、薄膜沉積到實驗室測試研發等各個環節中的準確溫控。冠亞恒溫目前已與半導體多領域行業大企業達成合作，可為客戶提供標準品及用戶定制品，自2010年創辦以來不斷創新，注重研發和質量把控，生產的工業冷水機chiller系列產品具有設置方便、快速響應而準確控溫等特點，實現了低能耗、高穩定性的冷卻效果，賦能半導體晶圓制造。
