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單溫區開啟式管式真空氣氛爐產品描述：開啟式管式爐外形美觀大方，結構設計*合理。以合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，爐膛采用多晶纖維材料...

CVD多路氣氛真空氣氛管式爐產品介紹：高溫管式爐廣泛用于各種反應溫度在1600℃左右的CVD實驗；也可用于真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備...

立式垂直真空管式氣氛爐技術，自主研發生產的、節能、、新型電爐。具有合理的雙層殼體結構，表面溫度小于等于40℃，外觀美觀大方，采用冷軋鋼板，數控機床和高精密的激光...

360度小型多工位旋轉管式爐是一款可以360度旋轉的石英管式爐（爐管直徑Φ40或Φ60mm），結構緊湊，用于在加熱或熔化過程中混勻樣品，反應更均...

回轉窯|傾斜旋轉傾斜管式氣氛爐可用于航空航天、新能源，LED發光材料等行業。1200度可傾斜旋轉管式加爐為實驗室用小型回轉爐，該小型回轉爐爐體可傾斜30...

1400度真空管式爐|硅碳棒加熱以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表，能進行多段程序控溫，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，用流量...

1700度單溫區管式氣氛爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件，加熱溫度可高達1700℃，爐管管徑為40.60.80.100mm，采用高純氧化鋁制作，耐高溫性能*。若客...

1200℃管式爐/真空氣氛爐特點：l 最高溫度：1200 ℃（HRE電阻絲加熱）1400℃ （硅碳棒加熱）1600℃ （硅鉬棒加熱）1700℃ （硅鉬棒加熱）