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【新品發布】京都玉崎商貿 真空清潔設備
名稱
真空光學表面處理設備
模型
PL1-1107A
概述
這是在真空狀態下進行185nm或254nm照射處理的裝置。
目的
?透鏡、棱鏡的清洗、修飾
?各種基材材料的前處理
特征
?真空度為0～0.001Torr。
?照射尺寸為300×400mm，可作為生產機使用。
廠商介紹
1965年，也就是1960年5月16日美國梅曼博士在GE（通用電氣）休斯研究所發明第一臺激光裝置的五年后，SEN在大阪開始了激光產品的開發和制造。有目的的。然而，作為本世紀偉大發明的激光器的市場不可能在五年內增長，激光器業務陷入停滯，只生產了幾臺氦氖激光器和一臺氬激光器。
當時的市場上，半導體在電路中的應用正在不斷進步，并且需要高性能的紫外線消毒光源來對用于清潔硅片的純水進行消毒。SEN公司擁有過去制造激光放電管的經驗，迎接開發半導體行業所需的高性能紫外線燈的挑戰，并于1973年成功開發。這促使SEN發現了紫外光技術，這是SEN目前的核心技術。下一代，即紫外線市場，是針對液晶電視的，由于集成度的提高，液晶電視一直在努力提高產量。液晶電視雖然起源于美國，但日本是第一個成功商業化的國家。短波長紫外線被證明是一種可以直接高程度清潔玻璃面板的技術，因此立即被液晶電視制造行業采用。
除了干洗外，紫外線還具有改性作用，可以提高塑料和金屬的粘合強度。在使用強力化學物質的改性技術中，紫外線是一種不會損害表面光滑度的技術，非常適合日益高度集成和小型化的IT產品的制造過程。紫外線技術專門用于強化大容量存儲設備（HDD）磁盤表面的潤滑劑涂層，也用于半導體基板封裝工藝。 在水處理領域，紫外線已有100年的歷史，當與氧化劑配合使用時，可以處理有機污染物。紫外線加速氧化水處理作為未來的先進技術備受期待。由于UV光源的燈管是SEN公司自行生產的，因此SEN在生產UV設備方面具有優勢和潛力。
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