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最新資訊 日本ULVAC愛發科 真空泵
發布日期
2025年 6 月2 5 日
我公司發表了[新產品]“ULVAC愛發科 真空泵新聞"。
愛發科ULVAC憑借其多樣化技術路線（干式/油式）和的穩定性，廣泛應用于以下核心領域：
一、半導體與制造?
?芯片制造關鍵工藝?
用于刻蝕、離子注入、薄膜沉積等環節，提供高潔凈真空環境（干式泵避免油污染晶圓）。
濺射設備中維持10?3 P真空度，保障金屬鍍層均勻性（如GLD系列油旋片泵）。
?顯示面板與光學鍍膜?
液晶面板生產的真空貼合工藝，確保無氣泡缺陷。
光學鏡片鍍膜時提供穩定真空，提升薄膜附著力（DAP-6D隔膜泵適用小型設備）。
二、能源與化工?
?新能源電池生產?
電極材料干燥工序中創造無油真空，防止電解液污染。
太陽能電池硅片鍍膜設備的真空系統。
?化工流程強化?
真空蒸餾、分子蒸餾工藝的核心動力源（耐腐蝕型號處理酸性氣體）。
腐蝕性氣體回收（如DAT-100S干泵耐受HF、Cl?）。
三、通用工業場景?
核心性能優勢?
?高潔凈度?：干式泵（如DAT系列）杜絕油蒸氣反流，滿足半導體級潔凈要求。
?強適應性?：
油旋片泵（VDN301）支持高粉塵、水蒸氣環境。
特殊涂層泵體耐腐蝕性提升3倍以上。
?低維護設計?：無彈簧旋片結構（如VSN2401）避免停泵故障，壽命延長40%。
注：油式泵需定期更換密封件和潤滑油，建議按廠商指南維護。
