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產品簡介
詳細介紹
產品簡介： SE-L 光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技技術，采用行業前沿創新技術，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。SE-L 光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、 PZT 膜，激光二極管 GaN 和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。
| 產品型號 | SE-L 光譜橢偏儀 |
| 主要特點 | 1、高精度自動測量光學橢偏測量解決方案
2、全自動變角、調焦等控制平臺，一鍵快速測量
3、軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷
4、豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力
5、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉補償器調制、 PCRSA 配置， 實現Psi/Delta光譜數據高速采 集
7、全自動橢偏測量技術，基于行業電機控制技術，全自動調整測量角 |
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| 度，高精度控制樣件臺，實現樣件快速自動對準找焦
8、頤光技術確保在寬光譜范圍內，提供優質穩定的各波段光譜
9、數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 |
| 技術參數 | 1、自動化程度：自動變角
2、應用定位：自動型
3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜
4、分析光譜： 380-1000nm(可擴至 193-2500nm)
5、單次測量時間： 0.5-5s
6、重復性測量精度： 0.01nm
7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑 200um
8、入射角調節方式：自動變角
9、入射角范圍： 45-90°
10、找焦方式：自動找焦
11、Mapping 行程： 支持 100x100mm(可選配)
12、支持樣件尺寸： 至 200mm |
| 可選配置 | 波段選擇
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm 角度選擇
自動:45-90°
其他選擇 |
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| Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)
溫控臺:室溫一 600℃(供參考,按需定制) | |
| 可選配件 | 1 | 溫控臺 |
| 2 | Mapping 擴展模塊 | |
| 3 | 真空泵 | |
| 4 | 透射吸附組件 | |