該款ALD原子層沉積設備特別適用于科研用戶的小型臺式設備。它經濟實用、操作簡單、質量穩定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實驗室被廣泛使用。
設備介紹：
該款ALD原子層沉積設備，特別適用于科研用戶的小型臺式設備。它經濟實用、操作簡單、質量穩定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。它已經在ALD專家教授實驗室被廣泛使用。
研發團隊介紹：
該設備是由哈佛著名ALD團隊Roy G. Grodon教授組的教授們研發出來的。
Roy G. Gordon院士，美國哈佛大學化學系Thomas D. Cabot教授。研究領域涉及應用數學、物理、化學和材料科學。在應用數學領域發展了特殊函數(Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse等)有效近似計算方法，并應用于量子力學和化學動力學等領域。在物理化學領域，提出了“Gordon-Kim”勢函數，可用于精確計算分子間相互作用力。在材料科學領域，自80年代后，Roy Gordon院士致力于研究化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)的前驅物及工藝，發展了一系列可用于生長純金屬、金屬氧化物、氮化物和硫化物等的前驅物，并應用于工業生產。目前工業界應用的Roy Gordon院士發明的技術方法包括：CVD制備氧化錫/二氧化硅多層膜結構用于節能窗玻璃；快速ALD制備納米Al2O3/SiO2多層膜用于濾光器件；ALD制備氮化鈦納米薄膜用于計算機芯片中銅、鋁導線的擴散勢壘；CVD制備ITO薄膜應用于薄膜太陽能電池；CVD制備氮化鋁薄膜應用于場致發光顯示器。
設備特點：
1.該設備尺寸小，體積小，特別適合有高真空、高敏感材料的研究，無專業的潔凈室要求，最小的型號可以直接放到手套箱里面操作。也可以根據需要和手套箱建立不同形式的連接方式；
2.設備適合科研級別研究，最小可做2英寸的襯底；
3.可以進行粉末包裹；
4.可以在現場從熱型升級為等離子體型的選型；
5.可以根據需求定制多達近百個襯底的樣品臺。
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用戶案例：
哈佛大學、赫爾辛基大學（ALD起源地）、西北大學、劍橋大學(英國)、牛津大學、萊斯大學、英屬哥倫比亞大學(加拿大)、ENS-Paris(法國、高等師范學院)、國立材料科學研究所(日本，多臺)、早稻田大學(多臺)、東京大學、北京量子研究院、北京大學、、布里斯托大學（英國）、謝菲爾德大學等等
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