型號：AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

一款市面上體積最小的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款適用于科研的經(jīng)濟型原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款經(jīng)濟實惠的原子層沉積系統(tǒng)ALD

可做粉末的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款可以放入手套箱里的原子層沉積系統(tǒng)ALD

特別適合在高真空和水氧量極低環(huán)境下使用

技術(shù)參數(shù)：

·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm 

·粉末涂層可選(容量可達~10cm^3) 

·可放置2英寸x2英寸×3英寸或兩個2英寸圓片的樣品(可定制的卡盤和我們的粉末涂層選項)

·2個前驅(qū)體端口，4個可選端口 (帶有高達150°℃的熱追蹤線，HT套件至180°C) 

·可升級為空心陰極等離子體(可選)通風前驅(qū)體外殼 

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進行集成惰性氣體吹掃-標配

·全不銹鋼腔室，溫度范圍可達300°C 

·靜態(tài)反應(yīng)模式下可實現(xiàn)高覆蓋 

·帶集成PLC控制的5英寸顯示屏

·包括終身軟件升級 

·1年保修

可選項：真空泵，4個端口，臭氧發(fā)生器(AT-03), 瓶加熱器，QCM,遠程PC控制， ALD前驅(qū)體，手套箱，HT套件(前驅(qū)體至 180℃),起泡器，粉末噴涂機，HC等離子體。

典型用戶:

該ALD設(shè)備客戶遍布世界各地，其中包含ALD業(yè)內(nèi)的國際專家，他們都是ALD會議委員會的著名成員

Sean Barry, Dennis Haussman, Mikko Ritala，Anjana Devi，Stacey Brent等

其中Mikko Ritala 每年發(fā)表很多ALD的文章，他來自于ALD的發(fā)源地，赫爾辛基大學(xué)

詳情可以聯(lián)系我們咨詢。

我們的 ALD 咨詢服務(wù)

薄膜沉積服務(wù)

我們能夠?qū)⒏鞣N各樣的材料沉積在您的樣本上。

工藝問題解除服務(wù)

我們能夠為薄膜和納米技術(shù)工藝、工藝整合以及器件性能提供廣泛的技術(shù)支持。當有需求時，我們會根據(jù)員工的豐富經(jīng)驗、深入的文獻研究、理論建模以及直接實驗來提供報告和建議。

雖然我們的專長在于原子層沉積技術(shù)(ALD)，但我們也參與了多個項目，這些項目通常屬于半導(dǎo)體加工和納米技術(shù)研究與開發(fā)的范疇。

我們曾為初創(chuàng)企業(yè)開發(fā)了新型設(shè)備，并為大學(xué)實驗室以及一些大型企業(yè)開發(fā)了新的材料。

市場分析與技術(shù)評估

我們可以為相關(guān)領(lǐng)域的企業(yè)和學(xué)術(shù)界提供針對某一特定原子層沉積技術(shù)在市場中的應(yīng)用趨勢的深入分析，同時也能對現(xiàn)有及新興的原子層沉積相關(guān)科學(xué)的研究與開發(fā)現(xiàn)狀進行評估。