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成都藤田光學儀器有限公司
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日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌MUSASHI/武藏

廠商性質代理商

所  在  地成都市

更新時間:2025-06-28 16:47:41瀏覽次數:106次

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產地類別 進口
日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET專為化學反應型粘合劑設計,通過創新的飛行混合技術實現雙液空中撞擊涂布,免除混合部清洗需求。設備搭載智能機械臂系統,支持V/I構型噴頭自由切換,可精準控制0.001ml微量點膠,實現零材料損耗的精密涂布,特別適用于半導體封裝和新能源電池等高精度制造領域。

日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

技術革新概述

DUAL JET雙液噴射點膠系統是面向化學反應型粘合劑開發的第四代工業涂布設備,通過飛行混合(Flight Mixing)技術突破傳統雙液點膠工藝瓶頸。該系統采用非接觸式雙流道噴射架構,使AB雙組分粘合劑在距基板5-15mm的空中完成瞬時撞擊混合,消除了混合腔體結構,實現*"零清洗、零殘留"的雙液涂布解決方案。

核心工藝優勢

  1. 免維護混合機制
    傳統設備因混合部固化殘留需頻繁停機清洗(平均每2小時/次),本設備通過V/I構型動態噴頭實現:

    • V模式:雙液45°角對射形成反應區,適用于高粘度材料(≤50,000cps)

    • I模式:同軸層流疊加混合,支持3D曲面跟隨涂布
      實測顯示可降低92%維護工時,年節約清洗劑成本超18萬元(按300天/年計)

  2. 亞微升級控膠精度
    配備壓電陶瓷驅動閥組,單點最小吐膠量0.001ml(±3% CV),配合0.5μm分辨率線性模組,實現:

    • 半導體封裝:芯片底部填充膠縫控制≤50μm

    • 動力電池:極耳涂布速度達120mm/s(膠寬誤差±0.1mm)

  3. 智能生產集成
    通過OPC UA協議與機械臂協同,支持:

    • 動態路徑補償(適應±0.2mm工件公差)

    • 流量-速度自適應算法(R=0.99線性相關)

    • 工藝數據庫存儲200組配方參數

工業驗證數據

在新能源電池模組PACK線實測中(2024Q3):

  • 材料利用率100%(傳統工藝損耗率15-20%)

  • 切換時間從45分鐘縮短至3分鐘(配方自動調用)

  • 百萬點膠缺陷率≤12ppm(ISO 2859-1標準)

典型應用場景

  • 半導體:Chiplet異構封裝underfill

  • 新能源:4680電池密封膠連續涂布

  • 光學:VR透鏡雙組分光學膠貼合


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