PECVD設備是一種利用等離子體技術來促進化學反應的設備，PECVD設備的工作原理基于化學氣相沉 積（CVD），但通過引入等離子體能量，可以提高 反應速率、降低反應溫度、改變薄膜成分和結 構 ，以 及 增 強 薄 膜 的 附 著 力 和 致 密 性 。在 PECVD過程中，使用低氣壓下的低溫等離子體 在沉積室的陰極觸發輝光放電，或通過其他加 熱裝置將樣品加熱至設定溫度，并引入特定量 的工藝氣體。這些氣體在等離子體的作用下進 行多種化學反應，最終在樣品表面生成一層固態薄膜。滿足不同領域的研究需求。