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THINKY日本新基專用攪拌機大量現貨ARV-930TWIN大容量：最大可處理 500ml、1.1kg 的材料，是從小型機擴容而來的中型通用機型，能滿足一定生產...

THINKY日本新基專用攪拌機大量現貨AR-500大容量：最大可處理 500ml、1.1kg 的材料，是從小型機擴容而來的中型通用機型，能滿足一定生產規模的需求...

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KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村庫存SDE20N12TX無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村庫存SDE30N20無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL12E50無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL20E50無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL36E60無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL3600無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU100X無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU180X無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU300X無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU600X無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。

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