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箱式真空氣氛爐可供工礦企業、科研等單位、大中專院校實驗室和車間作化學分析、物理測定所用。在輻射室內輻射爐管沿爐墻周圍圍城一個圈狀，由于加熱爐的底部有燃燒器，火焰以豎直向上狀態噴射，箱式真空氣氛爐火焰是和爐管平行且等距離的，保持同一水平截面上爐管的熱強度呈現均勻性。但是箱式真空氣氛爐爐長的熱強度分布并不是均勻的。箱式真空氣氛爐通常在輻射室頂部懸掛高鉻鎳合金鋼的輻射錐，用它的再輻射作用使爐管的軸向熱強度趨于均勻。但是由于輻射錐的材質的特殊性，多采用為高鉻鎳合金鋼，費用較高，一般圓筒爐的熱負荷大于0.4×10 4 kw 時，就不再采用輻射錐。鄭州安晟開發研制的箱式真空氣氛爐適用于工 礦企業、大專院校，科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。真空氣氛爐是一種*實驗設備，適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設備。箱式真空氣氛爐主要用于材料試驗、合成、燒結等。爐體保溫性能良好，節能*，氣氛爐還可用于、復合材料、粉體材料、結構陶瓷、合金的真空熱壓燒結。針對高溫常壓實驗設備中的新型空氣加熱箱式真空氣氛爐爐溫特性的復雜性和工業上的要求，對它的控制有一定的難度。隨著計算機技術、控制理論的發展，箱式真空氣氛爐參數的測量 和溫度的控制已進入了微機化、智能化的階段。除了在硬件上進行改進外，*控制理論的應用是當前箱式真空氣氛爐溫度控制大的亮點。箱式真空氣氛爐爐膛內安置有不銹鋼真空 管，從真空管前端抽真空，后端排氣或進氮氣。因此，常規箱式真空氣氛爐不能采用這些加熱與隔熱材料。
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