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低溫恒溫水槽的應(yīng)用范圍
閱讀：1551 發(fā)布時(shí)間：2010-9-6
低溫恒溫水槽對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
低溫恒溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時(shí)提供一個(gè)熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對(duì)試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測(cè)試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。