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光學(xué)鍍膜的工藝
光學(xué)鍍膜的工藝
光學(xué)鍍膜在高真空涂布室中實現(xiàn)。傳統(tǒng)的光學(xué)鍍膜涂層工藝需要提高基材溫度（通常約為300°C）；而更*的技術(shù)，例如離子輔助沉積（IAD），則可以在室溫下進(jìn)行。IAD工藝不僅可以生產(chǎn)比常規(guī)涂層工藝具有更好物理性能的薄膜，而且還可以應(yīng)用于塑料制成的基材。
光學(xué)鍍膜
電子束蒸發(fā)，IAD沉積，光控制，加熱器控制，真空控制和自動過程控制的控制模塊都在涂布機的前面板上。光學(xué)鍍膜兩個電子槍源位于基板的兩側(cè)，被環(huán)形蓋包圍并被擋板覆蓋。離子源在中間，而光控窗在離子源的前面。
光學(xué)鍍膜
光學(xué)鍍膜使用行星系統(tǒng)是確保蒸發(fā)材料均勻分布在固定裝置區(qū)域的方法。固定裝置繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光學(xué)鍍膜燈光控制和晶體控制位于行星驅(qū)動機構(gòu)的中間，而驅(qū)動軸則屏蔽了晶體控制。背面的大開口導(dǎo)致額外的高真空泵。基板加熱系統(tǒng)由4個石英燈組成，在真空室的每一側(cè)有兩個。
光學(xué)鍍膜
柱面鏡加工廠家、柱面鏡廠家、球面鏡廠家告訴你，光學(xué)鍍膜沉積的傳統(tǒng)方法是熱蒸發(fā)，或使用電阻加熱蒸發(fā)源或電子束蒸發(fā)源。光學(xué)鍍膜的特性主要取決于沉積原子的能量。離子源將離子束從離子槍引導(dǎo)到基板表面和生長的光學(xué)鍍膜，以改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的光學(xué)鍍膜特性。
柱面鏡加工廠家、柱面鏡廠家、球面鏡廠家告訴你光學(xué)鍍膜的性質(zhì)，例如折射率，吸收率和激光損傷閾值，主要取決于膜的微觀結(jié)構(gòu)。光學(xué)鍍膜材料，殘余氣壓和基材溫度都可能影響薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。如果在基材表面上氣相沉積的原子的遷移率較低，則光學(xué)鍍膜將包含微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕空氣中時，這些孔逐漸被水蒸氣填充
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件 的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專業(yè)的光電鍍膜公司，公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)，為客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等。
