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目錄:牛津儀器(上海)有限公司>>ALE>> PlasmaPro 100 ALE

PlasmaPro 100 ALE
  • PlasmaPro 100 ALE
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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更新時間:2022-11-30 12:43:01瀏覽次數:255評價

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As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to create and manipulate these layers. The PlasmaPro 100 ALE delivers this through specialised hardware including:All these combine to enable etching with accuracy at the atomic scale.

我們的設備和工藝已通過充分驗證,正常運轉時間可達90%以上,一旦設備安裝完畢,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場應用廣,包括但不限于: MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性,可用于研究和開發,通過打造質量滿足生產需求。

PlasmaPro 100 ALE 的特點:

  • 準確的刻蝕深度控制;
  • 光滑的刻蝕表面
  • 低損傷工藝
  • 數字化/循環式刻蝕工藝——刻蝕相當于ALD
  • 高選擇比
  • 能加工200mm的晶圓
  • 高深寬比(HAR)刻蝕工藝
  • 非常適于刻蝕納米級薄層

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