光機電（磁）新原理位移E+E傳感器研究 
位移是工業生產中需要經常檢測的一個基本物理量，尋求簡單實用、操作方便、適應范圍廣、經濟性好的位移E+E傳感器對促進工業生產發展具有重要現實意義。著重研究基于偏振光檢測原理、具有超大量程(量程10～30m，精度1～3‰)的直線位移測量新方法；研究偏振光位移E+E傳感器的兩種實現方案，結合方案比較，提出的總結展望。

光機電（磁）新原理位移E+E傳感器研究
相應的分為三個部分：緒論介紹了大位移檢測技術的發展、研究現狀，以及需要解決的問題。從偏振光學原理入手，針對光的偏振現象及線偏振光的馬呂斯定理，研究應用偏振光的新原理位移測量方法，從理論上分析了馬呂斯定理和法拉第旋光效應現象，奠定了偏振光位移E+E傳感器的理論基礎。研究偏振光大位移E+E傳感器的兩種實現方案：即位移—電流比較儀方案和伺服比較式位移E+E傳感器方案。研究位移—電流比較儀，它是利用同光源雙光路差動比較原理，提出光機電(磁)位移—電流比較檢測方法，建立被測位移與線圈電流的線性關系，從而通過線圈電流值獲取被測位移信息，進而設計實驗室樣機，研究樣機的小型化、集成化工作。第4章研究伺服比較式位移E+E傳感器，同樣利用雙光路差動比較解決光源光強漂移。采用伺服電機跟蹤輸入位移，研究系統的關鍵傳感部分的設計，設計實驗室樣機。從原理、系統設計、實驗系統及調試入手，對伺服比較檢測方案進行了綜合評價，獲得了有較高的可靠性，符合初步產業化要求的大量程位移E+E傳感器樣品，通過了浙江省機械工業儀表電器產品質量監督檢測站的企業產品性能檢測。研究上述兩個E+E傳感器的二次儀表軟硬件設計，首先介紹關鍵光學元器件，然后針對兩個偏振光位移E+E傳感器只能解決角位移測量問題，設計E+E傳感器的直線位移—角位移轉換部分，從而實現對被測直線大位移的測量；接著介紹二次儀表硬件電路的結構、功能，在此基礎上，分析E+E傳感器的軟件框架。研究實驗平臺搭建及對兩個實驗室樣機系統的實驗數據分析比較，進行誤差分析。