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光刻膠的定義及其成分

來源:江蘇澤源生物科技有限公司   2017年07月27日 11:49  

光刻膠的定義及其成分

光刻膠的定義:
     光刻膠(Photoresist簡稱PR)又稱光致抗蝕劑,它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物,它受紫外光曝光后,在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。

作用:
      a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面頂層的光刻膠中;
      b、在后續(xù)工序中,保護(hù)下面的材料(刻蝕或離子注入)。

光刻膠的主要成分

 

樹脂:光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì),是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑。光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。

 

感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,它對(duì)光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會(huì)發(fā)生反應(yīng)。曝光時(shí)間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。

 

溶劑:光刻膠中容量zui大的成分,感光劑和添加劑都是固態(tài)物質(zhì),為了方便均勻的涂覆,要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),且使之具有良好的流動(dòng)性,可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布在wafer表面。

 

添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。

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