手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
光刻工藝技術(shù)基礎-表面處理
表面處理-光刻膠的特性
跟空氣的界面：
如果表面活性不恰當，會形成涂花等光刻膠表面缺陷，一般的解決辦法 是添加表面活性劑，或改變涂膠條件（ e.g.閉蓋）。
跟襯底的界面：
如果表面活性不恰當，會引起脫膜或圖形移位等問題。解決辦法包括提高膠的粘附性、HMDS預處理和使用BARC。
表面處理
晶元容易吸附潮氣到它的表面。光刻膠黏附要求要嚴格的干燥表面， 所以在涂膠之前要進行脫水烘焙和 黏附劑的涂覆。脫水烘焙的溫度通 常在 140度到200度之間。有時還要用到黏附劑，黏附劑通常使用HMDS （六甲基二硅胺脘）。表面處理的主要作用是提高光刻膠與襯底之間 的粘附力，使之在顯影過程中光刻 膠不會被液態(tài)顯影液滲透。(如下圖)
HMDS 可以用浸泡、噴霧和氣相方法來涂覆。HMDS（六甲基二硅氮甲烷）把它涂到硅片表面后，通過加溫可反應生成以硅氧 烷為主題的化合物，這實際上是一種表面 活性劑，它成功地將硅片表面由親水 變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié) 合，起到耦合的作用，再者，在顯影 的過程中，由于它增強了光刻膠與基底的 粘附力，從而有效地抑制圖形移位。
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心