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恒電位儀采用高頻開關(guān)電源交流輸入直接整流，然后經(jīng)過由功率開關(guān)元件(功率晶體管、MOS管、IGBT等)構(gòu)成的逆變電路，將高壓直流，高頻方波經(jīng)高頻變壓器降低到低壓的高頻方波，再經(jīng)過整流濾液再得到穩(wěn)定電壓的直流輸出。
1. 拋光的目的
隨著電化學(xué)氧化還原反應(yīng)的實驗的反復(fù)進行,實驗中的產(chǎn)物會附著在電極的表面上，并會使電子傳遞速度逐漸衰減變慢。如果電子的傳遞速度變慢，將會擴大氧化和還原峰之間的電勢差。
通過拋光處理可恢復(fù)電極的表面狀態(tài)，使電子傳遞速度再次增加。因此，氧化和還原峰之間的電勢差變窄，可再回到理想的狀態(tài)。拋光的目的是去除在工作電極表面上吸附的氧化還原產(chǎn)物。
2. 拋光的步驟
準(zhǔn)備好玻璃板，在玻璃板上面墊一層拋光布，滴幾滴拋光液在拋光布上。將工作電極垂直放在拋光布上，畫‘o’或者‘8’字進行拋光打磨，然后用蒸餾水沖洗電極表面。
備注：拋光液可采用0.3微米和0.05微米氧化鋁拋光液，打磨時從粗到細打磨。
上述方法可用于玻碳電極、金電極、鉑電極、銀電極等工作電極的拋光。
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